つや出しパッド
研磨パッドは特殊な微孔発泡材料で作られ、ポリウレタン類、ダンパー布と不織布類に分けられ、高平坦度要求と光沢度要求を加工するために用いられる。研磨パッドは硬軟で適度で、同時に多孔性を維持し、この硬さは研磨パッドを一生平坦な一緻性を維持することができ、製品はすでに様々な需要と基板材料の平麺加工と研削加工に開発されている。
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製品説明
海外シリーズ研磨パッドを経営する
研磨パッドは特殊な微孔発泡材料で作られ、ポリウレタン類、ダンパー布と不織布類に分けられ、高平坦度要求と光沢度要求を加工するために用いられる。研磨パッドは硬軟で適度で、同時に多孔性を維持し、この硬さは研磨パッドを一生平坦な一緻性を維持することができ、製品はすでに様々な需要と基板材料の平麺加工と研削加工に開発されている。
主なサービス市場：
半導体基板
板ガラス/LCD/FPD
精密光学
ストレージディスク
加工材料/応用は以下を含む：
半導体基板/シリコンウェハ
LCD/フラットパネルディスプレイ
精密光学素子
ディスクメモリ基板
ディスクドライブヘッド
典型的な製品：
製品モデル | 密度（g/cm3） | かたさC | 開口径（um） | あっしゅくりつ | じゅうてんざい | 特徴 | 用途 | コメント |
7355 | 0.34 | 58 | 65 | 74 | げんすい布 | 汎用性が高い | ブルーグラス粗仕上げ | |
1900 | 0.37 | 65 | 65 | 64 | げんすい布 | 高平坦性 | ブルーグラス粗仕上げ | |
2900 | 0.35 | 67 | 25 | 60 | げんすい布 | 高平坦性 | ||
LP-66 | 0.40 | 78 | ポリウレタン（CeO2） | 精密光学、ガラスディスク | ||||
LP-57 | 0.32 | 88 | ポリウレタン（ZrO2） | 精密光学，半導体基盤 | ||||
GR-35 | 0.58 | 89 | ZrO2 | 液晶導電ガラス |